原创力文档- 3
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- 2023-08-10 发布于四川
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本实用新型公开了一种半导体制造用清洗机，包括底座，所述底座的顶部通过螺栓连接有清洗箱和储液箱，且清洗箱的底部设有喇叭状结构的溢流罩，所述底座的顶部通过螺栓连接有输送泵，且输送泵的进口端通过法兰与储液箱连通，输送泵的出口通过法兰与溢流罩连通，所述清洗箱的内部设有支撑网板，且支撑网板的顶端通过搭扣锁连接有防护支架。本实用新型中，启动输送泵将储液罐内部的清洗液循环至清洗箱的内部，使得清洗液从溢流罩向上涌出，涌出的清洗液进入到清洗腔内部自下而上的对半导体片表面进行清洗，将污渍从溢流管排出，带有污渍的清洗
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210052720 U
(45)授权公告日
2020.02.11
(21)申请号 20192
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