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本发明公开了一种用于镓‑镍合金靶制备的电镀装置及方法。本发明装置包括电镀槽;搅拌单元,包括伺服电机、电机传动轴、导电滑环和同轴器,导电滑环包括导电滑环本体和导电滑环内轴,导电滑环本体上设阳极导线和阴极导线;阳极单元,包括横向固定阳极的阳极固定板和阳极托板连接轴,阳极与阳极导线连接,阳极固定板在阳极托板连接轴带动下横向可旋转地安装在电镀槽内;阴极单元,包括横向固定有阴极靶件的阴极靶托和靶电极导杆,阴极靶件与阴极导线连接,阴极靶托包括阴极靶托本体,阴极靶托本体在靶电极导杆带动下横向可旋转地安装在电镀
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116575097 A
(43)申请公布日 2023.08.11
(21)申请号 202310427680.4
(22)申请日 2023.04.20
(71)申请人 中国科学院近代物
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