配气装置及具有其的气化炉.pdfVIP

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本实用新型公开了一种配气装置及具有其的气化炉,配气装置包括:配气斗,配气斗用于支承气化炉内的物料,配气斗具有锥形外壁面,用于与配气气流接触,并使配气气流穿过配气斗壁体进入至配气斗内腔,以向配气斗内腔及内腔上方均匀配气以形成空间立体式配气。还包括配气盘,配气盘用于辅助支承气化炉内的物料并使物料燃烧产生的灰渣连续通过后落入下方的储灰箱中,且配气盘还与用于供给配气气流的引风风机相连,以将由引风风机引入的均匀、分散地配送到气化炉内。本新型的气化炉气化反应均匀性好,物料不易形成“空位”,系统运行稳定性及气

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210085382 U (45)授权公告日 2020.02.18 (21)申请号 20192

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