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本实用新型属于镀膜技术领域,具体涉及一种新型增强AR增透膜的冷镀装置。一种新型增强AR增透膜的冷镀装置,包括真空罩,所述的真空罩的内腔顶部设置有光控系统和晶控系统分别与监视设备相连,所述的真空罩的下部开设有抽真空口,抽真空口处设置有抽真空机构,所述的真空罩内上方设置有用于放置待镀膜基片的基片固定架,真空罩底部基片固定架的下方设置有多个盛放AR膜料的AR坩埚和对应坩埚放置的电子枪,真空罩内还设置有高压离子轰击棒。该装置在120度低温环境下通过高压离子轰击棒进行轰击膜料分子进行镀膜,增加了膜层与基片
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210085561 U
(45)授权公告日
2020.02.18
(21)申请号 20192
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