原创力文档- 1
- 0
- 约6.45千字
- 约 7页
- 2023-08-15 发布于四川
- 举报
本实用新型揭示了应用于镭射设备的水平调节基座，包括磁铁基座，磁铁基座上设有沉台面，沉台面上设有调高基座，调高基座内设有通孔，通孔内可拆卸配接有磁铁垫块，旋转基座上设有若干径向设置的T型锁固槽、及用于与T型锁固槽相配合将磁铁基座、调高基座及旋转基座相锁固一体的若干锁固机构，磁铁基座的顶面、及磁铁垫块的顶面分别设有防滑结构。本实用新型方便底部具备凹凸结构的钢体工件搭载，磁吸附的固定方式能防止钢体工件壁面受到夹持损伤，同时便于载卸料，提高作业效率。通过磁铁垫块的选择能满足不同垫高需求，同时满足磁吸附可
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210099271 U
(45)授权公告日
2020.02.21
(21)申请号 20192
文档评论（0）