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本实用新型公开了一种准确定位引晶埚位及等径GAP的装置，属于单晶硅生产设备技术领域。包括导流筒及设置于导流筒上的定位组件，定位组件的一端可转动连接导流筒，另一端从导流筒的底端伸出。化料完成、温度稳定时，上升坩埚，使硅液面接触定位组件的下端，根据引晶工艺设定GAP，下降坩埚一定的距离，即为引晶埚位，等径时根据定位组件的下端到液面的距离判断等径GAP，因定位组件距离液面位置近，从而实现能够准确直观的判断等径GAP。当定位组件受到外力干扰时，定位组件沿导流筒转动，起到缓冲作用，防止定位组件变形损坏，当
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210104125 U
(45)授权公告日
2020.02.21
(21)申请号 20192
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