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本实用新型涉及测量光源以及用于检测样本的绝对反射光谱的测量装置。用于产生具有均匀的空间照明强度分布的测量光的测量光源包括块状块体,在块体中构造有照明腔、光成形腔和光射出腔,它们分别构造为块体中的空腔并且具有漫反射的内部面。照明腔通入光成形腔中。光成形腔通入光射出腔中。用于产生光的至少一个光源至少部分地布置在照明腔中。光射出腔具有光射出口。根据本实用新型,照明腔的轴线和光射出腔的轴线彼此间隔开布置。光成形腔被构造成用于使光传播方向反转。此外,本实用新型还涉及一种用于检测样本的至少一个绝对反射光谱的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210119290 U
(45)授权公告日
2020.02.28
(21)申请号 20192
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