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本发明公开了一种真空磁控溅射卧式双面镀膜系统，包括抽真空机构、入口室、加热室、中转室和镀膜室，入口室、中转室和镀膜室依次连接，加热室和中转室连接，镀膜室上设有磁控溅射系统和可转动的转盘，转盘上环形阵列布置有多个基片安装位，磁控溅射系统包括分别位于转盘上方和下方的上阴极磁控溅射组件和下阴极磁控溅组件，抽真空机构包括低真空泵组、高真空泵组和深冷泵组，镀膜室连接至少一组低真空泵组、至少一组高真空泵组和至少一组深冷泵组。本发明基片两面可实现同步镀膜，制备的膜层附着力强，膜层致密、均匀性好、成膜稳定、效率
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116590679 A
(43)申请公布日 2023.08.15
(21)申请号 202310646523.2
(22)申请日 2023.06.02
(71)申请人 湘潭宏大真空技术
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