一种负型厚膜光刻浆料及其制备方法.pdfVIP

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2023-08-16 发布于四川
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一种负型厚膜光刻浆料及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种负型厚膜光刻浆料及其制备方法，属于电子浆料技术领域，所述的负型厚膜光刻浆料，包括以下质量百分比的组合：75~80%导电金属相、15~25%感光性有机载体、0.5~2%粘结相；所述粘结相包括玻璃粉及无机添加剂；所述玻璃粉与无机添加剂的质量比为1：（0.1~0.8）；所述无机添加剂包括氧化铋、氧化锆、三氧化钨，所述氧化铋、氧化锆、三氧化钨的质量比为1：（0.5~2）：（0.2~1）。所述的负型厚膜光刻浆料具有优异的导电性能、粘结力以及耐酸性。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116594260 A (43)申请公布日 2023.08.15 (21)申请号 202310498742.0 H01B 1/16 (2006.01)