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涂敷处理方法、计算机存储介质和涂敷处理装置.pdfVIP

涂敷处理方法、计算机存储介质和涂敷处理装置.pdf

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    一种在基片上涂敷涂敷液的方法，其中，在形成于基片上的涂敷液的液膜干燥之前，一边使该基片以规定的转速旋转，一边对基片上的涂敷液的该液膜上的周边部供给涂敷液的溶剂，以在该周边部形成涂敷液与溶剂的混合层，然后，使基片以比规定的转速快的转速旋转，将混合层赶到外周侧，来控制干燥后的涂敷液的膜厚。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 110088880 A (43)申请公布日 2019.08.02 (21)申请号 20178

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