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本实用新型公开了一种有机物表面处理腔体结构,包括主体腔室、工艺反应上腔室部分、工艺反应下腔室部分和气体管路部分;工艺反应上腔室部分包括上遮挡板、侧遮挡板和加热板;上遮挡板固定在主体腔室内,侧遮挡板设置在上遮挡板下表面的两侧,加热板设置在上遮挡板上;工艺反应下腔室部分包括下遮挡板、承载台、冷盘、射频偏压装置和圆环;冷盘和射频偏压装置从上至下依次设置在承载台上,下遮挡板设置在承载台的两侧,圆环设置在冷盘与下遮挡板之间;通过对遮挡板进行加热的结构,能有效保持腔体内的反应腔在工艺过程中以及待机闲置状态时
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219553586 U
(45)授权公告日 2023.08.18
(21)申请号 202320617588.X
(22)申请日 2023.03.27
(73)专利权人 杭州晶通科技有限公司
地址 3
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