一种便于清理的半导体刻蚀工作台.pdfVIP

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2023-08-19 发布于四川
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一种便于清理的半导体刻蚀工作台.pdf

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本实用新型公开了一种便于清理的半导体刻蚀工作台，包括架体，所述架体的一侧开设有避位槽，所述架体的上表面固定连接有两个导向架，且导向架的一端位于避位槽内，两个所述导向架内均活动连接有滑块，所述滑块的一侧活动连接有齿盘，齿盘的一侧固定连接有圆环，所述滑块的一侧活动连接有辅助齿轮，且辅助齿轮与齿盘相啮合。本实用新型不仅能够不需要人工进行清理，减少了工人的劳动量，节省了时间，提高了半导体刻蚀工作台的清理的便捷性，而且能够避免废屑散落一地，提高了对半导体刻蚀工作台的清理效率，还能够避免半导体刻蚀工作台在使

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219553575 U (45)授权公告日 2023.08.18 (21)申请号 202222787233.3 (22)申请日 2022.10.24 (73)专利权人亚新半导体科技（无锡）有限公司