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本发明提供一种暖机方法,以及采用该暖机方法使腔室达到工艺所需的工作状态的一种基片的刻蚀方法。该暖机方法包括步骤S1:对光胶片进行第一刻蚀,以将生成的聚合物覆盖在暴露于腔室内的工艺环境中的部件表面;步骤S2:对光胶片进行第二刻蚀,用于在暴露于腔室内的工艺环境中的石英盖表面增加聚合物。通过在第一刻蚀步骤的基础上增加第二刻蚀步骤,可以在石英盖表面沉积一层较厚的致密的聚合物,从而使得在后续对基片进行刻蚀的工艺中,石英盖表面覆盖的聚合物颗粒不容易掉落,避免在基片上造成颗粒缺陷,提高产品的良率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111725044 A
(43)申请公布日
2020.09.29
(21)申请号 20191
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