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基站以及清洁系统.pdfVIP

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  • 2023-08-19 发布于四川
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基站以及清洁系统.pdf

    本实用新型公开一种基站以及清洁系统，基站包括基站本体以及喷液件，基站本体设有清洁槽，喷液件被配置为能够被驱动，以相对基站本体沿预设轨道运动，喷液件在沿预设轨道运动时能够朝清洁槽内喷射清洁液。如此设置，在需要清洗清洁槽时，驱动喷液件沿预设轨道运动，喷液件一并朝清洁槽内喷射清洁液，便能对清洁槽进行清洗，进而能够解决用户因需手动清洗清洁槽而导致的用户体验较差的问题。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219541262 U (45)授权公告日 2023.08.18 (21)申请号 202223600140.1 (22)申请日 2022.12.30 (73)专利权人 追觅创新科技 （苏州）有限公司

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