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- 2023-08-20 发布于四川
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本实用新型一种可视化半导体光电化学微加工装置,所述装置包括:半导体样品、光源、电解池、恒电位仪、光学斩波器、图像采集模块和电脑处理终端;所述电解池内设有参比电极和对电极,参比电极、对电极和作为工作电极的半导体样品浸泡在电解液中,所述参比电极、对电极和半导体样品均与恒电位仪电性连接;所述光源位于所述半导体样品的上方,用于照射所述半导体样品,所述光学斩波器位于所述光源和半导体样品之间;所述图像采集模块和恒电位仪均与所述电脑处理终端电性连接。本实用新型结构紧凑,实现可视化观察刻蚀过程,可扩展性强,根据
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210150713 U
(45)授权公告日
2020.03.17
(21)申请号 20192
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