对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置.pdfVIP

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2023-08-22 发布于四川
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对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置.pdf

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本实用新型公开了一种对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，包括：旋转靶材，其一端设置有与门车进行固定第一调距板；用于实现磁控溅射的反应腔，其一端设置有可供旋转靶材伸入的第一轴孔，另一端设置有可供旋转靶材下方支撑轴伸出的条形第二轴孔；设置在反应腔一侧，并与第二轴孔位置相配合的第二调距板；其中，所述第一调距板、第二调距板上分别设置有对旋转靶材的垂直位置进行调整的第一条形螺孔、第二条形螺孔。本实用新型提供一种对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，其能够通过设置相配合的两块调距板，配合其上的条形螺孔

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210176943 U (45)授权公告日 2020.03.24 (21)申请号 20192