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本发明公开了一种去除六氟化钨中金属杂质的工艺,属于六氟化钨生产技术领域。其技术方案为:通过化学还原法,用金属钨将六氟化钨中的六氟化钼、六氟化铬还原成固相的金属钼和铬析出,附着在金属钨粉上,与六氟化钨气体分离。本发明解决了六氟化钨中Mo和Cr金属杂质难去除且去除过程复杂的问题以及六氟化钼的熔点和六氟化钨的沸点相近且在熔点附近有较高的蒸气压使六氟化钼较难分离的问题,去除金属杂质的效果好。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116621223 A
(43)申请公布日 2023.08.22
(21)申请号 202310505399.8
(22)申请日 2023.05.08
(71)申请人 乌兰察布南大微电子材料有限公司
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