一种解决拆分冲突的光掩模修正方法.pdfVIP

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2023-08-23 发布于四川
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一种解决拆分冲突的光掩模修正方法.pdf

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本发明公开一种解决拆分冲突的光掩模修正方法。获取光掩模版图，将所述光掩模版图按照拆分规则进行拆分，得到两个掩模版子图；对两个掩模版子图提取所有三角矛盾拆分冲突图形区域；将上述所有冲突图形区域复制到两个掩模版子图上，得到两个新的掩模版子图；分别对两个新的掩模版子图在各自光罩可制造性规则不受限所有方向上进行OPC修正；对两个OPC修正后的掩模版子图进行曝光，在一片晶圆上形成双重曝光，经过叠加，还原预期的曝光目标轮廓。本发明提出在两个掩模版子图上均放置所有三角矛盾图形区域，可降低生产成本，减少工艺热点

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116626983 A (43)申请公布日 2023.08.22 (21)申请号 202310515060.6 (22)申请日 2023.05.09 (71)申请人浙江大学地址 310058