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本实用新型涉及一种二流体蚀刻装置,包括输送机构、喷嘴模组和调节模组。输送机构用于沿输送方向输送待蚀刻基板,至少两个蚀刻区沿输送方向布置,喷嘴模组包括沿输送方向布置的至少两个喷嘴,每一蚀刻区内设有至少一个喷嘴,调节模组包括至少两个能够独立控制的调节阀,同一蚀刻区内的喷嘴连接于同一调节阀,以通过调节阀调整喷嘴的液气比例。以上二流体蚀刻装置,每一蚀刻区内的喷嘴可以按需求控制液气比例,实现每一蚀刻区在一流体蚀刻状态和二流体蚀刻状态之间的切换,从而可在加工过程中,灵活地调整蚀刻区的蚀刻状态,调整一流体蚀刻
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219592728 U
(45)授权公告日 2023.08.25
(21)申请号 202321233213.X
(22)申请日 2023.05.19
(73)专利权人 深圳藤淦科技有限公司
地址 5
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