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一种增强型离子源.pdfVIP

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  • 2023-08-29 发布于四川
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一种增强型离子源.pdf

    本实用新型涉及一种增强型离子源，属于离子源的技术领域；所述离子源腔室沿工作气体流动方向依次设置有气体入口、气体均布室、气体出口、电离室与离子射出口；所述电离室用于工作气体的电离；所述气体均布室用于工作气体的流速降低和均匀分布。本实用新型设有用于工作气体降低流速、均匀分布的气体均布室，流速进一步的变得缓慢，当为多种工作气体的混合时，也是可以将工作气体更加均匀的混合，在对工作气体进行电离时，测其离子射出口的电流，其远远高于未设置气体均布室时的数据，本实用新型的离子源具有较高的离化效率。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210272248 U (45)授权公告日 2020.04.07 (21)申请号 20182

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