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本发明公开了一种基于下开口扫描的双曲线线性化识别方法。本发明将双曲线转化为等间距模型,将目标点簇是否为双曲线的问题转化为点簇是否呈现出等间距特性的问题,使得双曲线的待估计参数减少为一个的同时,还保留了原本双曲线形状的全部信息,与传统的最小二乘法相比具有更好的准确性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116664530 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202310653572.9 G06T 11/20 (2006.01)
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