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本发明公开一种OPC修正中亚分辨率辅助图形布局方法。数据获取模块，获取待OPC修正的版图；计算版图中孤立图形和密集图形的工艺窗口；获取SRAF初始规则，并在孤立图形中插入SRAF，通过光刻模型曝光SRAF；根据SRAF曝光结果设置SRAF宽度；更新SRAF和孤立图形之间的距离；根据更新后的工艺参数实现SRAF插入到孤立图形。本发明提出根据插入SRAF后孤立图形工艺窗口中心位置和密集图形工艺窗口中心位置的差值，实现SRAF插入参数的调节，适用于不同尺寸孤立图形SRAF的插入，具有普适性，能够提高各
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116661235 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202310560546.1
(22)申请日 2023.05.15
(71)申请人 浙江大学
地址 310030
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