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本发明公开了一种耐磨反射膜，包括基材、硬化涂层、低折射率涂层；其中，所述基材包括PET；其中，所述硬化涂层的折射率为1.53，厚度为3~5微米；其中，所述低折射率涂层的厚度为90~110纳米；其中，所述耐磨反射膜的制备方法包括如下步骤：S1：硬化胶水通过狭缝或微凹辊涂布在基材上，然后经过热干燥、UV固化形成硬化膜；S2：在硬化膜的基础上继续涂布低折胶水，然后经过热干燥、UV固化形成抗反射膜；所述硬化胶水中的引发剂为184引发剂和TPO引发剂的复合引发剂，184引发剂：TPO引发剂的比例为3~5：
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116655985 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202310572061.4
(22)申请日 2023.05.19
(71)申请人 太仓斯迪克新材料
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