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本发明提供了一种LED芯片及其制备方法,该方法包括:在芯片主体的表面生成钝化层,具体为,在芯片主体的表面涂覆第一厚度的第一PHPS胶层,并于第一温度下对第一PHPS胶层的表层进行水解,以生成多孔层;于第二温度下对剩余第一PHPS胶层进行氧化,以在多孔层的正下方生成钝化层;在多孔层的表面涂覆第二厚度的第二PHPS胶层,对第二PHPS胶层进行紫外光照处理,以形成隔离结构。通过本申请,改善了利用第一PHPS胶层转化成钝化层的过程中氧化硅容易出现梯度分布问题,加快了生成钝化层的时间,以便于厂中大面积生产
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116666522 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202310569099.6
(22)申请日 2023.05.19
(71)申请人 江西兆驰半导体有限公司
地址 3
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