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- 2023-08-31 发布于四川
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本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种半导体存储器。所述半导体存储器包括:衬底,所述衬底内具有多条字线以及位于相邻两条字线之间的导电接触区;沟槽,位于所述导电接触区内;接触窗口,位于所述导电接触区内,所述接触窗口位于所述沟槽上方且与所述沟槽连通,所述接触窗口的宽度大于所述沟槽的宽度;接触插塞,接触窗口,位于所述导电接触区内,所述接触窗口位于所述沟槽上方且与所述沟槽连通,所述接触窗口的宽度大于所述沟槽的宽度。本实用新型增大了接触插塞与导电接触区之间的接触面积,从而降低接触插塞与导电接触区之
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210272360 U
(45)授权公告日
2020.04.07
(21)申请号 20192
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