一种降低硅片碎片的上料吸片装置.pdfVIP

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  • 2023-08-31 发布于四川
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本实用新型涉及上料吸片装置技术领域,且公开了一种降低硅片碎片的上料吸片装置,包括支架,所述支架的底部固定安装有底板,所述底板上固定安装有托盘,所述托盘的一侧固定安装有边框,所述边框固定安装在两个传送装置的中部,所述传送装置上活动放置有硅片,所述支架的顶部固定安装有顶板,所述顶板的底部固定安装有机械臂。本实用新型通过将以往的四点吸盘改为整体吸盘,加大吸附力度,改进了以往吸盘的吸力不均衡,避免吸盘因吸附力不均衡造成碎片现象,且对风口进行改进,将以往技术方案中的一孔式吹口改为风刀结构,能够将层叠的硅片

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210272301 U (45)授权公告日 2020.04.07 (21)申请号 20192

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