- 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本实用新型提供一种刻蚀装置,其包括一刻蚀槽及一磁场产生装置,所述刻蚀槽内能够盛放磷酸刻蚀溶液,所述磁场产生装置能够产生交变磁场,所述交变磁场施加在所述刻蚀槽内的磷酸刻蚀溶液上,以增加刻蚀副产物的运动活性。本实用新型的优点在于,在刻蚀槽内的刻蚀溶液上施加交变磁场,加速刻蚀副产物的运动活性,形成类似搅拌的效果,加速刻蚀副产物的扩散,从而避免刻蚀副产物在隔离层表面沉积而影响后续工艺的进行。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210296317 U
(45)授权公告日
2020.04.10
(21)申请号 20192
文档评论(0)