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- 2023-09-06 发布于四川
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本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,涉及半导体光电器件领域。发光二极管外延片包括衬底和依次设于所述衬底上的形核层、本征GaN层、N型GaN层、多量子阱层、电子阻挡层和P型GaN层;多量子阱层包括势阱层和势垒层;每个势垒层均包括依次层叠的第一三元掺杂GaN层、SiGaN层和第二三元掺杂GaN层;所述第一三元掺杂GaN层的掺杂元素为Be、Mg和O,所述第二三元掺杂GaN层的掺杂元素为Be、Mg和O;所述第一三元掺杂GaN层的掺杂浓度与第二三元掺杂GaN层的掺杂浓度相同或不同。实
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116705931 A
(43)申请公布日 2023.09.05
(21)申请号 202310572852.7 H01L 23/60 (2006.01)
(22)申请日 2023.05.
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