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一种基于双套站浅层地温的支架，其结构包括水平设置的基座，基座上端面左右两部均竖直设有一定位支架，基座上端面中部设有气泡水平仪，定位支架内侧由上至下间隔设有多个浅层地温传感器，定位支架底面设有一调节槽，基座上设有滑动配入调节槽内的调节块，在基座中部设置气泡水平仪，在埋地过程中，工作人员可根据气泡水平仪上的数据，进行放置好基座，防止对后续的监测工作造成影响，并且定位支架具有可高低调节功能，工作人员可通过转动调节螺栓，调节螺栓底部会旋出螺纹连接的调节块，调节螺栓进行上移并带动转动连接的定位支架，调节块
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219641107 U
(45)授权公告日 2023.09.05
(21)申请号 202320709609.0
(22)申请日 2023.04.03
(73)专利权人 方文维
地址 363300
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