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本发明涉及一种抛光载体，用于承载抛片在抛光垫上进行抛光，能够提升抛片平坦度，以解决抛片平坦度不良的问题。该抛光载体包括：基座组件，该基座组件包括第一腔和第二腔，该第一腔和该第二腔用于分别被可调节地充压以提供大小可变的作用力；第一施力组件，该第一施力组件被设置于该基座组件，并且该第一施力组件用于连接该抛片，以在该第一腔的作用下对该抛片施加作用力；以及第二施力组件，该第二施力组件被设置于该基座组件，并且该第二施力组件被相对可活动地环绕在该第一施力组件的周围，该第二施力组件用于在该第二腔的作用下，对该
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115091359 A
(43)申请公布日 2022.09.23
(21)申请号 202210581245.2
(22)申请日 2022.05.26
(71)申请人 浙江晶盛机电股份有限公司
地址 3
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