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本发明涉及物理气相沉积硬质涂层,具体公开了一种Ta‑C多层硬质涂层。本发明采用Ti靶和石墨靶,涂层制备过程包括:步骤一:等离子清洗;步骤二:沉积Ti打底层;步骤三:制备Ti和碳结合体层;步骤四:沉积四面体无定型无氢非晶碳层。本发明的物理气相沉积Ta‑C涂层采用离子溅射及辉光放电技术相结合工艺,具有制备工艺简单,沉积温度低、无污染、耗材少以及成膜均匀致密等特点。本发明的Ta‑C涂层硬度接近金刚石硬度,具有硬度更高、自润滑性更好以及摩擦系数更低等优点。本发明的Ta‑C涂层应用于软金属加工刀具及塑胶成
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 106893987 A
(43)申请公布日
2017.06.27
(21)申请号 20171
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