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本申请涉及光刻胶技术领域,具体公开了ArF光刻胶成膜聚合物及其制备方法及用该聚合物制得的光刻胶及其应用。ArF光刻胶成膜聚合物,包括如下比例的各组分:降冰片烯新单体5‑20mol%;马来酸酐单体45‑55mol%;侧链含有保护基团的降冰片烯单体20‑40mol%。ArF光刻胶成膜聚合物的制备方法包括:溶解、加热反应、纯化、烘干等步骤。光刻胶包括如下各组分:ArF光刻胶成膜聚合物、光致产酸剂、碱性添加剂、第三溶剂。本申请的光刻胶具有良好的粘附性和耐蚀刻性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116693755 A
(43)申请公布日 2023.09.05
(21)申请号 202310759537.5
(22)申请日 2023.06.26
(71)申请人 瑞红 (苏州)电
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