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- 2023-09-13 发布于四川
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本发明涉及一种用于调节光学系统、特别是用于微光刻的光学系统的方法，该光学系统包括多个光学元件，每个光学元件都设有光学有效层系统，该方法包括以下步骤：确定在操作期间由光学系统在预定义平面中提供的系统波前；确定所确定的系统波前与目标系统波前之间的系统波前偏差；以及在至少一个光学元件上执行层操作，使得所确定的系统波前偏差减小。在这种情况下，根据一个方面，使用预先确定的查找表来选择适于减小系统波前偏差的层操作，在该查找表中，针对所述光学元件的层系统的不同层操作，列出了该至少一个光学元件对系统波前的相应波
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116745702 A
(43)申请公布日 2023.09.12
(21)申请号 202180092081.0 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
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