1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗.pdfVIP

  • 4
  • 0
  • 约4.3千字
  • 约 6页
  • 2023-09-13 发布于四川
  • 举报

一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗.pdf

    本实用新型涉及一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗，属于化学气相沉积技术领域。一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗，其特征在于，包括碗主体，碗主体为圆柱体，在碗主体一侧圆表面设置有向内凹陷的凹面，通过凹面对炉内气体浓度低的部位进行补气，利用凹面直径的大小变化以及凹面向碗主体内凹陷的深度来改变补气的区域，使反应气体的气流分布均匀，充分利用炉内反应气体，改善大坩埚的表面厚度均匀性，提高反应气体的利用率。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210394514 U (45)授权公告日 2020.04.24 (21)申请号 20192

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >