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- 2023-09-14 发布于四川
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本实用新型公开了一种双层透明电磁屏蔽膜，包括：透明基底；第一屏蔽层，其堆叠设置在所述透明基底的上表面，或其嵌设于所述透明基底的上表面，其包括有第一网格状凹槽，和由填充于所述第一网格状凹槽内的电屏蔽材料或者磁屏蔽材料形成的第一屏蔽结构；第二屏蔽层，其堆叠设置在所述第一屏蔽层的上表面，包括有第二网格状凹槽，和由填充于所述第二网格状凹槽内的磁屏蔽材料或者电屏蔽材料形成的第二屏蔽结构；其中，所述第一屏蔽层和第二屏蔽层的屏蔽功能不同。与现有技术相比，本实用新型提供了一种双层透明电磁屏蔽膜，采用双层屏蔽层，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210432328 U
(45)授权公告日
2020.04.28
(21)申请号 20192
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