映射装置和映射方法.pdfVIP

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  • 2023-09-16 发布于四川
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本公开涉及映射装置和映射方法。所述映射装置包括:基底,雕刻有对准图案;静电吸盘,在所述基底下面,并且与所述基底接触;以及防分离框架,在所述基底上,并且防止所述基底分离。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116759362 A (43)申请公布日 2023.09.15 (21)申请号 202310215407.5 (22)申请日 2023.03.08 (30)优先权数据 10-2022-0031483

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