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本发明公开了离子源挡板装置和离子束刻蚀机，离子源挡板装置包括基础件和叶片；叶片为多个，并分别能沿预设轨迹运动地安装于基础件；其中，叶片能围成开口，且各叶片沿预设轨迹运动后能调节上述开口的尺寸。上述离子源挡板装置中，各叶片分别能沿预设轨迹运动地安装于基础件，叶片围成的开口能通过各叶片沿预设轨迹运动实现调节尺寸，从而使开口的尺寸能与不同尺寸的晶圆适配，既不影响离子束穿过开口到达晶圆处进行刻蚀，又避免离子束刻蚀到未被晶圆覆盖的晶圆载台区域，保护晶圆载台免受损伤。本发明公开的离子束刻蚀机应用上述离子源挡
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116779412 A
(43)申请公布日 2023.09.19
(21)申请号 202311079064.0
(22)申请日 2023.08.25
(71)申请人 江苏鲁汶仪器股份有限公司
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