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本发明公开了一种加载自平衡的微小球体研磨设备，主要包括上研磨盘、下研磨盘、升降机构、上盘加压机构和下盘驱动机构，设置上盘加压机构紧贴上研磨盘，下盘驱动机构连接下研磨盘，将升降机构安装在上盘加压机构上，在上研磨盘与下研磨盘之间布设有球体，下研磨盘设有用于研磨所述球体的球体研磨槽，使球体能在研磨槽内研磨，保证球体在加工过程中受压稳定，提升了加工效率和精度，有利于上述球体研磨设备在球体精密加工技术领域的应用和推广。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116766044 A
(43)申请公布日 2023.09.19
(21)申请号 202310932517.3
(22)申请日 2023.07.27
(71)申请人 浙江工业大学
地址 310014
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