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本发明提供了一种用于掩模对准光刻设备的照明系统，包括：光源模块，光源模块包括多个可独立控制的光源；光准直模块，光准直模块将光源模块中的每一个光源所发出的光准直成沿平行于照明系统的光轴的第一方向发射的第一多个平行光束；设置于光轴上的第一抛物面反射镜，第一抛物面反射镜在第一方向上设置于光源模块的下游，用于将收集到的经准直的第一多个平行光束反射并汇集到光轴上的第一点，其中第一点是第一抛物面反射镜的焦点；以及设置于光轴上的光融合模块，用于将收集到的来自第一点的光反射并汇集到光轴上的第二点，其中第二点在第
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116774535 A
(43)申请公布日 2023.09.19
(21)申请号 202311041321.1
(22)申请日 2023.08.18
(71)申请人 上海图双精密装备有限公司
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