一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备.pdfVIP

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2023-09-20 发布于四川
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一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备.pdf

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本发明提供一种旋转硅靶材均匀性表面处理设备，涉及靶材表面处理设备技术领域。该旋转硅靶材均匀性表面处理设备，包括两个工作台和靶材，所述工作台的上端面两侧分别设置有调节夹持座和固定夹持座，所述靶材通过两个三爪卡盘夹持在调节夹持座和固定夹持座之间，两个所述工作台的上方通过支撑柱固定连接有横向运动机构，所述横向运动机构的下方连接有激光处理机构，所述工作台的后侧设置有顶出机构，所述顶出机构包括连接挡板，所述连接挡板的前侧固定连接有冷却机构。本发明中，实现了对于加工间隙时间的利用，工作效率高，能够满足高效率

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116765611 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202310765814.3 B23K 37/04 (2006.01) (22)申请日 2023.06.