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本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种扩散管及扩散炉，包括：管体部，开设有一用于放置舟的腔体，法兰部，固定连接于管体部一端，第一进气部，部分设置于法兰部，喷出部，与第一进气部相连通，喷出部被配置为将来自于第一进气部的气体分散喷出，在腔体内沿平行管体部的轴线方向流动。本实用新型通过设置喷出部和第一进气部，可以使气体均匀扩散到扩散炉内，改善扩散炉内部气体分散不均匀的问题，保证扩散炉加工工艺的稳定性。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219752427 U
(45)授权公告日 2023.09.26
(21)申请号 202320406575.8
(22)申请日 2023.02.23
(73)专利权人 拉普拉斯新能源科技股份有限公
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