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- 2023-09-28 发布于四川
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本实用新型提供了一种用于极片补锂的装置,极片包括集流体以及设置在集流体表面上的活性物质层,集流体表面的未设置活性物质层的部分为空白集流体区,用于极片补锂的装置包括辊压机构、极片提供机构、锂膜提供机构以及隔断物提供机构;辊压机构包括两个压辊;极片提供机构位于辊压机构的上游,用于提供极片;锂膜提供机构位于辊压机构的上游,用于提供锂膜,锂膜包括锂箔;隔断物提供机构位于辊压机构的上游,用于将隔断物提供到空白集流体区的表面上,使锂膜与空白集流体区被隔开,辊压机构用于压延锂膜以及带有隔断物的极片,以使锂膜中
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210576211 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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