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一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备.pdfVIP

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  • 2023-09-28 发布于四川
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一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备.pdf

    本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备，其包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，平衡架的中轴部可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并可以通过其底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜的一部分被环状压盘夹紧至承载盘下部以形成密封腔室，所述平衡架下表面的中心区域具有沿竖直方向向下延伸的下凸结构。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210550370 U (45)授权公告日 2020.05.19 (21)申请号 20192

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