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- 2023-09-28 发布于四川
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本实用新型涉及到电镀技术领域,尤其涉及一种离子束抛光设备。该离子束抛光设备使用真空泵将真空室获得一定真空度。打开离子源将冲入真空室内的惰性气体氩气电离形成等离子体,然后由栅极将离子呈束状引出并加速,对基板进行抛光。电机带动基板旋转,提高抛光的均匀性。在打开离子源的同时打开中和器避免电荷在基板上聚集而产生对后续离子的排斥作用。使用离子束抛光设备可用得到超光滑表面。不仅可用提高抛光质量,而且大大提高了抛光效率,提高了抛光的均匀性和稳定性。此外,该离子束抛光设备结构简单,不仅可用提高抛光质量,而且大大
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210549947 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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