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- 2023-09-29 发布于四川
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本申请公开了一种金属图形化的剥离结构,包括衬底;位于衬底上表面的胶膜结构层,且胶膜结构层具有一级向上的第一台阶;位于胶膜结构层背离衬底的表面的第一光刻胶层,且第一光刻胶层与胶膜结构层形成一级向上的第二台阶。本申请中由衬底、胶膜结构层、第一光刻胶层共同形成了具有两级向上的台阶结构的剥离结构,也即该剥离结构具有两层屋檐结构,一方面增加了衬底上表面与第一光刻胶层上表面之间的距离,可用于沉积厚度较厚的图形化金属,另一方面两层屋檐结构的宽度可以按需求进行调节,使得到的图形化金属宽度更窄,且胶膜结构层和第一
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210575829 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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