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单晶炉
主要内容:1、掌握单晶炉的长晶原理
2、单晶炉的结构
3、单晶炉操作流程
4、单晶炉常见异常处理方法
5、单晶检测
1、单晶炉的长晶原理
将预先合成好的多晶原料装在坩埚中,并被加热到原料的熔点以上,此时, 坩埚内的原料就熔化为熔体,在坩埚的上方有一根可以旋转和升降的提拉杆,杆的下端带有一个夹头,其上装有籽晶。降低提拉杆,使籽晶插入熔体中,只要温度合适,籽晶既不熔掉也不长大,然后慢慢地向上提拉和转动晶杆。同时,缓慢地降低加热功率,籽晶就逐渐长粗,小心地调节加热功率,就能得到所需直径的晶体。整个生长装置安放在一个可以封闭的外罩里,以便使生长环境中有所需要的气氛和压强。通过外罩的窗口,可以观察到生长的情况。
2、单晶炉的结构
炉子本体包括机架、坩埚驱动装置、主炉室、翻板阀、副炉室、籽晶提升机构、液压驱动装置、真空系统、冲氩气系统及水冷系统。机架由底座、上立柱和下立柱组成,是炉子的支撑装置。坩埚驱动装置安装在底座内的平台上,主炉室
(由炉底板、炉底、炉筒和炉盖组成)安装在底座的上平面上,上面与翻板阀密封联结,副室放在翻板阀上,提拉头安装在副室上,坩埚驱动装置与炉室通过波纹管密封联结,液压系统中提升油缸安装在下立柱上。液压泵放在主机附近的适当位置,真空系统、水冷系统固定在机架上,主炉室是炉子的心脏部位,热场系统安装在内。另外还有电气部分,控制柜、加热系统等。
3、单晶炉操作流程
操作流程主要有:装料、化料、安定、种晶、引晶、放肩、转肩、等径和收
尾。操作需要做到:颈细、肩平、径等、尾尖才能拉出很好的晶棒。装料
首先清洗好炉体,将清理干净的石墨三瓣锅装入单晶炉,调整石墨器件位置, 使加热器、保温碳毡、石墨托碗保持同心,调节石墨托碗,使它与加热器上缘水平。在三瓣锅中放入新的石英坩埚。
其次由装料员将称好的多晶料和掺杂剂装入坩埚内。装料时应注意一下两点:
装料时,不能使石英坩埚底部有过大的空隙,防止塌料时,上部未熔的多晶硅跌入硅液中,造成熔硅外渐。
硅晶硅不能碰到石英坩埚的上边沿,防止多晶硅粘着在上边沿。
装料完成,检查仪器。一切工作准确无误后,关好炉门,开动机械泵和低真空阀门抽真空,炉内真空达 5×10-1 乇时,打开冷却水,开启扩散泵,打开高真空阀。炉内真空升到1×10-3 乇时,即可加热熔硅。在流动气氛下和减压下熔硅, 单晶炉内真空达到 10-1 乇时关闭真空泵,通入高纯氩气 10 分钟,或者一边通入高纯氩气,一边抽空 10 分钟,即可加热熔硅。
化料
打开功率进行加热,使炉体上升到 1500℃左右。熔硅时,应注意炉内真空度的变化,一般说来,在流动气氛下或在减压下熔硅比较稳定。熔硅温度升到1000℃时应转动坩埚,使坩埚各部受热均匀。
安定
当多晶硅会全部熔完后,将坩埚升到引晶位置,同时关闭扩散泵和高真空阀门,只开机械泵保持低真空。以一定流量通入高纯氩气,调整排气阀门,使炉膛
保持一定的正压强。使熔液温度、流动和表面气压达到稳定。种晶
当多晶硅料完全熔化并安定后,将籽晶下降到距离熔硅 3-5mm 处烘烤两三分钟,使籽晶温度接近熔硅温度,减少对籽晶的热冲击,再下降与熔硅接触。
通过观察坩埚边液面的起伏情况,可以判断熔体温度的高低。若籽晶周围不能形成一个稳定的光圈,则此温度不适合引晶。合适的引晶温度是籽晶和熔硅接触后,籽晶周围逐渐出现稳定的光圈,最后光圈变圆。光圈内可以看到四个分散在四周并对称的小白点。
温度合适后,提拉籽晶,开始缓慢提拉。引晶(缩颈)
种晶完后,籽晶应快速向上提升,使晶体的生长速度加快,新结晶的单晶直径比籽晶的小。籽晶直径一般为 5mm,引晶后的为 3mm 左右。同时缩颈后长度应为其直径的 6--10 倍。由于拉出的单晶很重,缩颈时单晶的直径不能太细,否则引晶部分容易提断。
缩颈是为了排除引出单晶中的位错。下种时,由于籽晶和熔硅温差大,高温的熔硅对籽晶造成强烈的热冲击,籽晶头部产生大量位错,通过缩颈,使晶体在
生长中将位错“缩掉”,成为无位错单晶。放肩
细颈达到规定长度后,如果晶棱不断,立刻降温,降拉速,使细颈逐渐长大到规定的直径,此过程称为放肩。
此时晶体硅的生长速度大大放慢,晶体硅的直径急速增大,从籽晶直径增大
到所需的长度(208mm 左右),形成一个近 180°的夹角。
转肩
当放肩达到所需晶体直径时,突然提高拉晶速度进行转肩,使肩近似直角, 进入等直径生长。
等径
等径生长是整个拉晶时间最长的,对于操作来说却比较轻松。当放肩后,晶体生长加快,并保持稳定的速度生长,使晶体保持稳定的直径生长。在等径期间要注意观察外形上的四条棱线是否出现断线。若出现断线,则根据已拉出的晶棒长度确定是回熔重新引晶,还是直接拉断再拉下一根。一般规定长度大于700mm 则可以不必回熔。
一般说来,单晶等直径生长过程是缓慢降温过程,在单
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