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本文提供了用于处理基板的方法及装置。例如，一种用于处理基板的装置包括：被配置为将处理气体朝向基板支撑件的基板支撑表面引导的顶部输送气体喷嘴以及被配置为将处理气体朝向基板支撑件的侧表面引导的侧面输送气体喷嘴、连接至顶部输送气体喷嘴的第一气体管线、连接至侧面输送气体喷嘴的第二气体管线、以及连接至第一气体管线和第二气体管线以用于向处理腔室的处理容积提供处理气体的多个阀、以及连接至第一气体管线第一孔口限流器或第一针阀或连接至第二气体管线的第二孔口限流器或第二针阀。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116830251 A
(43)申请公布日 2023.09.29
(21)申请号 202180093411.8 郑毅 路四清
(22)申请日 2021.12.22
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