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本发明公开了一种连续真空沉积镀膜设备，包括镀膜室，镀膜室的一端设有卷材入口，镀膜室的另一端设有卷材出口；所述的镀膜室内设有支撑辊；支撑辊用于支撑柔性卷材，以形成待镀覆表面；张力调节辊；支撑辊相对的设置有由靶材支架支撑的靶材；还包括有等离子体发生装置，等离子发生装置产生的等离子体通过支撑辊和靶材之间的空隙区域；还包括有偏压板，偏压板沿着垂直于支撑辊轴线的方向包括有多个平行电压区域，平行电压区域之间互相电绝缘。本发明的设备所制产品质量高，均匀性好。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116815152 A
(43)申请公布日 2023.09.29
(21)申请号 202310850242.9
(22)申请日 2023.07.11
(71)申请人 安徽立光电子材料股份有限公司
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