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本申请公开一种部分相干照明下的掩模近场模拟运算方法、装置及电子设备，涉及光刻系统领域。方法包括：将光瞳面划分为预设个数的不同入射方向的光源点；对每个光源点通过严格电磁场仿真，分别确定多个输入的训练版图图形的四个衍射近场矩阵；基于多个训练版图图形对应的多组四个衍射近场矩阵，分别确定对应的预设图形种类对应的光源点近场分布训练数据；基于多个光源点近场分布训练数据，通过最小二乘法分别确定对应的所有预设图形种类的衍射传输矩阵；在接收到目标入射光源的情况下，确定与目标入射光源对应的光源点；基于光源点对应的衍
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116822448 A
(43)申请公布日 2023.09.29
(21)申请号 202310636729.7
(22)申请日 2023.05.31
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
地址 1
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