原创力文档- 10
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- 2023-10-01 发布于四川
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本实用新型提供一种光刻胶烘干装置，用于烘干涂覆在晶圆上的光刻胶，所述光刻胶烘干装置包括：至少一上烘干板、至少一下烘干板及一控制装置；所述上烘干板与所述下烘干板间隔设置，所述晶圆用于设置在所述上烘干板与下烘干板之间；所述控制装置分别与所述上烘干板及所述下烘干板连接，并控制所述上烘干板及所述下烘干板升温，以烘干所述光刻胶。本实用新型的优点在于，晶圆应力释放均匀，避免烘干后的光刻胶翘曲，甚至开裂；加速了自光刻胶中挥发出的溶剂的流动速度，保证了后续制程中形成的晶圆的关键尺寸相对均匀；大大缩短了单个晶圆的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210573184 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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